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产品详情
简单介绍:
规格
输入电压 输入:24伏直流±10%功率输入 RJ-45;0.7A(*大)
输出:13.5 kV p-p(*大),可调
退伍 ±1000-100V,15秒内,无气助,Vp-p在发射中心点组下方24英寸处摆动80
平衡 <±35v在受控环境下、距离18英寸测量 35="" 离子发射="" 调制脉冲(mp)技术="" 发射极="" iso="" 14644-1="" 一类单晶硅="" 无垢室类别="" 14644-1(0.1微米颗粒)和扩展iso="" 1级清洁度(10纳米颗粒或纳米颗粒),使用45-50%输出电压设定和配备单晶硅发射器的openjet喷嘴="" 尺寸="" 3.1英寸高="" x="" 1.3英寸宽="" 13.8="" 17.7="" 23.6="" 33.5="" 39.3="" 45.3="" 51.2="" 57.1="" 63.0="" 69.0="" 74.8="" 80.7="" 86.6="" 92.5英寸长="" (7.8="" 3.4="" <="" div="">
±35v在受控环境下、距离18英寸测量>
详情介绍:
带宽可调性及ISO 14644-12电离的调制脉冲技术
Simco-Ion技术集团的5635M AeroBar MP电离棒专门设计用于半导体及其他超洁净制造工艺中,这些工艺需要快速放电时间、低摆动电压和精密平衡,但不允许裸露金属表面。AeroBar采用MP技术,将高频正弦波与调制脉冲(MP)结合,实现高离子输出和传输。这一突破性技术使AeroBar能够安装在晶圆150毫米范围内。MP技术结合超洁净硅发射点和精密调节,实现ISO 14644-12电离(0.01微米颗粒或纳米颗粒)和ISO 14644 1类(0.1微米颗粒)的清洁度,这对小型技术节点至关重要。
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ISO 14644-12(0.01微米颗粒)电离和
ISO 14644一类(0.1微米颗粒)清洁度 - 调制脉冲技术
- 无金属设计“M”
- 横向均匀性**
- 低场电压
- 空中助推能力
- 可选软件,界面易用且可调节性宽广
- 报警输出信号