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产品详情
简单介绍:
带宽可调性及ISO 14644-12电离的调制脉冲技术
Simco-Ion技术集团的5635M AeroBar MP电离棒专门设计用于半导体及其他超洁净制造工艺中,这些工艺需要快速放电时间、低摆动电压和精密平衡,但不允许裸露金属表面。AeroBar采用MP技术,将高频正弦波与调制脉冲(MP)结合,实现高离子输出和传输。这一突破性技术使AeroBar能够安装在晶圆150毫米范围内。MP技术结合超洁净硅发射点和精密调节,实现ISO 14644-12电离(0.01微米颗粒或纳米颗粒)和ISO 14644 1类(0.1微米颗粒)的清洁度,这对小型技术节点至关重要。
详情介绍:
AeroBar 5635M MP®
带宽可调性及ISO 14644-12电离的调制脉冲技术
Simco-Ion技术集团的5635M AeroBar MP电离棒专门设计用于半导体及其他超洁净制造工艺中,这些工艺需要快速放电时间、低摆动电压和精密平衡,但不允许裸露金属表面。AeroBar采用MP技术,将高频正弦波与调制脉冲(MP)结合,实现高离子输出和传输。这一突破性技术使AeroBar能够安装在晶圆150毫米范围内。MP技术结合超洁净硅发射点和精密调节,实现ISO 14644-12电离(0.01微米颗粒或纳米颗粒)和ISO 14644 1类(0.1微米颗粒)的清洁度,这对小型技术节点至关重要。
-
ISO 14644-12(0.01微米颗粒)电离和
ISO 14644一类(0.1微米颗粒)清洁度 - 调制脉冲技术
- 无金属设计“M”
- 横向均匀性**
- 低场电压
- 空中助推能力
- 可选软件,界面易用且可调节性宽广
- 报警输出信号
规格
| 输入电压 |
输入:24伏直流±10%功率输入 RJ-45;0.7A(*大) 输出:13.5 kV p-p(*大),可调 |
|---|---|
| 退伍 | ±1000-100V,15秒内,无气助,Vp-p在发射中心点组下方24英寸处摆动80 |
| 平衡 | <±35V在受控环境下、距离18英寸测量 |
| 离子发射 | 调制脉冲(MP)技术 |
| 发射极 | ISO 14644-1 一类单晶硅 |
| 无垢室类别 | ISO 14644-1(0.1微米颗粒)和扩展ISO 1级清洁度(10纳米颗粒或纳米颗粒),使用45-50%输出电压设定和配备单晶硅发射器的OpenJet喷嘴 |
| 尺寸 |
3.1英寸高 x 1.3英寸宽 x 13.8 / 17.7 / 23.6 / 33.5 / 39.3 / 45.3 / 51.2 / 57.1 / 63.0 / 69.0 / 74.8 / 80.7 / 86.6 / 92.5英寸长 (7.8 x 3.4 x 35 / 45 / 60 / 85 / 100 / 115 / 130 / 145 / 160 / 175 / 190 / 205 / 220 / 235 厘米) |

